dépôt chimique

См. также в других словарях:

• Depot chimique en phase vapeur — Dépôt chimique en phase vapeur Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en… …   Wikipédia en Français

• Dépôt Chimique En Phase Vapeur — Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en phase vapeur 3 …   Wikipédia en Français

• Dépôt chimique en phase vapeur — Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en phase vapeur 3 …   Wikipédia en Français

• Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma — Equipement de PECVD. Le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (ou PECVD, pour Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition en anglais) est un procédé utilisé pour déposer des couches minces sur un substrat à partir d un état gazeux… …   Wikipédia en Français

• Dépôt chimique dynamique — Jetmetal JetMetal est une technique innovante de métallisation par voix humide permettant un dépôt chimique dynamique, autre nom de cette technique. Le procédé JetMetal permet de métalliser un substrat de n’importe quelle nature par projection… …   Wikipédia en Français

• dépôt chimique en phase vapeur — cheminis garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы, n pranc. déposition chimique en phase vapeur,… …   Radioelektronikos terminų žodynas

• dépôt chimique en phase vapeur à pression atmosphérique — cheminis garinis nusodinimas atmosferos slėgyje statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. atmospheric pressure chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase bei atmosphärischem Druck, f rus. химическое… …   Radioelektronikos terminų žodynas

• dépôt chimique en phase vapeur à haute température — aukštatemperatūris cheminis garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. high temperature chemical vapor deposition vok. chemische Hochtemperaturabscheidung aus der Gasphase, f rus. высокотемпературное химическое… …   Radioelektronikos terminų žodynas

• dépôt chimique en phase vapeur métallo-organique — cheminis garinis metaloorganinio junginio nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. metallo organic chemical vapor deposition vok. chemische metallorganische Abscheidung aus der Gasphase, f rus. химическое осаждение… …   Radioelektronikos terminų žodynas

• dépôt chimique en phase vapeur à pression réduite — cheminis garinis nusodinimas mažesniame slėgyje statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reduced pressure chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase bei reduziertem Druck, f rus. химическое осаждение из… …   Radioelektronikos terminų žodynas

• dépôt chimique en phase vapeur de silane — cheminis nusodinimas iš silano garų statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. silane chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Silan Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы силана, n pranc. dépôt… …   Radioelektronikos terminų žodynas